Çipin inkişaf tarixindən, çipin inkişaf istiqaməti yüksək sürət, yüksək tezlik, aşağı enerji istehlakıdır. Çip istehsalı prosesinə əsasən çip dizaynı, çip istehsalı, qablaşdırma istehsalı, xərc sınağı və çip istehsalı prosesi xüsusilə mürəkkəb olan digər əlaqələr daxildir. Çip istehsal prosesinə, xüsusən də çip istehsal prosesinə baxaq.
Birincisi, çip dizaynıdır, dizayn tələblərinə uyğun olaraq, yaradılan "naxış"
1, çip vaflisinin xammalı
Vaflinin tərkibi silikondur, silisium kvars qumu ilə təmizlənir, vafli silikon elementi təmizlənir (99,999%), sonra təmiz silikon silisium çubuquna çevrilir, bu da inteqral sxemin istehsalı üçün kvars yarımkeçirici materiala çevrilir. , dilim çip istehsalı vaflisinin xüsusi ehtiyacıdır. Vafli nə qədər incə olarsa, istehsalın maya dəyəri bir o qədər aşağı olar, lakin proses tələbləri bir o qədər yüksəkdir.
2.Vaffer örtüyü
Gofret örtüyü oksidləşməyə və temperatura müqavimət göstərə bilər və material bir növ fotomüqavimətdir.
3, vafli litoqrafiyanın inkişafı, aşındırma
Prosesdə ultrabənövşəyi şüalara həssas olan kimyəvi maddələrdən istifadə edilir ki, bu da onları yumşaldır. Çipin forması kölgələmə mövqeyinə nəzarət etməklə əldə edilə bilər. Silikon vaflilər ultrabənövşəyi işıqda həll olunsun deyə fotorezistlə örtülmüşdür. Bu, ilk kölgənin tətbiq oluna biləcəyi yerdir, belə ki, UV işığının bir hissəsi həll edilir, sonra bir həlledici ilə yuyula bilər. Beləliklə, qalan hissəsi kölgə ilə eyni formadadır, bizim istədiyimiz budur. Bu, bizə lazım olan silisium qatını verir.
4，Çirkləri əlavə edin
Müvafiq P və N yarımkeçiricilərini yaratmaq üçün ionlar vafliyə implantasiya edilir.
Proses bir silikon vafli üzərində məruz qalan sahədən başlayır və kimyəvi ionların qarışığına qoyulur. Proses, dopant zonasının elektrik cərəyanını keçirmə tərzini dəyişəcək, hər bir tranzistoru yandırmağa, söndürməyə və ya məlumat daşımağa imkan verəcəkdir. Sadə çiplər yalnız bir təbəqədən istifadə edə bilər, lakin mürəkkəb çiplər çox vaxt bir çox təbəqədən ibarətdir və bu proses müxtəlif təbəqələr açıq pəncərə ilə birləşdirilməklə dəfələrlə təkrarlanır. Bu, təbəqə PCB lövhəsinin istehsal prinsipinə bənzəyir. Daha mürəkkəb çiplər üçün təkrar litoqrafiya və yuxarıdakı proses vasitəsilə üç ölçülü bir quruluş meydana gətirməklə əldə edilə bilən çoxlu silisium təbəqəsi tələb oluna bilər.
5.Vafer testi
Yuxarıda göstərilən bir neçə prosesdən sonra vafli taxıllardan ibarət bir qəfəs meydana gətirdi. Hər bir taxılın elektrik xüsusiyyətləri 'iynə ölçmə' vasitəsi ilə araşdırıldı. Ümumiyyətlə, hər bir çipin taxıllarının sayı çox böyükdür və istehsal zamanı mümkün qədər eyni çip xüsusiyyətlərinə malik modellərin kütləvi istehsalını tələb edən pin test rejimini təşkil etmək çox mürəkkəb bir prosesdir. Həcmi nə qədər yüksək olsa, nisbi xərc bir o qədər aşağı olur, bu da əsas çip cihazlarının bu qədər ucuz olmasının səbəblərindən biridir.
6. İnkapsulyasiya
Gofret hazırlandıqdan sonra sancaq bərkidilir və tələblərə uyğun müxtəlif qablaşdırma formaları hazırlanır. Eyni çip nüvəsinin müxtəlif qablaşdırma formalarına sahib olmasının səbəbi budur. Məsələn: DIP, QFP, PLCC, QFN və s. Bu, əsasən istifadəçilərin tətbiq vərdişləri, tətbiq mühiti, bazar forması və digər periferik amillərlə müəyyən edilir.
7. Sınaq və qablaşdırma
Yuxarıda göstərilən prosesdən sonra çip istehsalı tamamlandıqdan sonra bu addım çipi sınaqdan keçirmək, qüsurlu məhsulları çıxarmaq və qablaşdırmadan ibarətdir.
Yuxarıdakı, Əsas Təsbit Yarat tərəfindən təşkil edilən çip istehsalı prosesinin əlaqəli məzmunudur. Ümid edirəm ki, sizə kömək edəcək. Şirkətimiz peşəkar mühəndislərə və sənaye elit komandasına malikdir, 3 standartlaşdırılmış laboratoriyaya malikdir, laboratoriya sahəsi 1800 kvadratmetrdən çoxdur, elektron komponentlərin sınaq yoxlanışını, IC doğru və ya yanlış identifikasiyanı, məhsul dizayn materialının seçimini, nasazlıq təhlili, funksiya testini həyata keçirə bilər, fabrikə daxil olan materialların yoxlanılması və lent və digər sınaq layihələri.
Göndərmə vaxtı: 12 iyun 2023-cü il
